ASML Aumenta la Producción de EUV en un 36% a medida que crece la demanda de centros de datos impulsados por IA

El fabricante neerlandés de equipos para chips ASML planea aumentar la producción de máquinas de litografía (ultravioleta extremo) (EUV) en aproximadamente 36% en 2026, impulsado por la creciente demanda derivada de la expansión de centros de datos de IA, según la orientación más reciente de la empresa.

ASML busca fabricar al menos 60 sistemas EUV estándar en 2026 y 80 en 2027, frente a su ritmo histórico de producción de 40 a 50 sistemas anuales. La empresa elevó su pronóstico de ventas para 2026 a 40 mil millones de euros (US$46.9 mil millones) desde 36 mil millones de euros (US$42.2 mil millones) el 15 de abril. ASML también planea invertir US$2.2 mil millones en instalaciones e infraestructura en 2026, lo que representa un aumento del 20% respecto al año anterior, ya que la empresa busca evitar convertirse en un cuello de botella para los clientes en medio de escasez de equipos, según Christophe Fouquet, CEO de ASML.

Los sistemas EUV de Alta NA impulsan el crecimiento de ingresos

La expansión de los ingresos de ASML va más allá de los mayores volúmenes de envío de máquinas EUV estándar. La empresa está comercializando sistemas EUV de Alta NA, una forma avanzada de tecnología EUV que produce chips más pequeños y más potentes para aplicaciones de IA. Cada herramienta de Alta NA cuesta más de 350 millones de euros (US$410 millones).

Esta línea de productos con mayores márgenes está ganando una adopción comercial más amplia. Intel ha completado las pruebas de aceptación para sus primeros sistemas de Alta NA para producción en masa, mientras que Samsung ha comenzado a recibir sistemas de Alta NA para sus próximas operaciones de fabricación de chips de 2 nanómetros. Más allá de los fabricantes de chips lógicos, los fabricantes de memoria SK Hynix y Micron están ampliando la capacidad EUV para Memoria de Ancho de Banda Alto (HBM), un tipo de memoria utilizado en servidores de IA.

La capacidad de producción de ASML configura el ritmo de la infraestructura global de IA

Si bien ASML afirma su intención de evitar convertirse en un cuello de botella, la producción de EUV de la empresa sigue siendo un factor limitante para qué tan rápido puede expandirse la capacidad informática global de IA. Esta postura le otorga a ASML una influencia significativa sobre los cronogramas de infraestructura. Los pedidos netos récord reflejan los planes de expansión de centros de datos de IA en las principales empresas tecnológicas—Microsoft, Meta, Alphabet y Amazon—mediante pedidos realizados a fabricantes de chips. El libro de pedidos y la cartera de ASML brindan información sobre las tendencias de gasto en infraestructura de IA que pueden abarcar varios años.

Los efectos de las limitaciones de producción de ASML se extienden hacia arriba, afectando proyectos de centros de datos, acuerdos de compra de energía y planificación de generación de energía, todo lo cual depende de chips de vanguardia que requieren herramientas EUV.

Se espera que la exposición a China disminuya

ASML espera una menor exposición a China en 2026. La empresa calcula que China representará aproximadamente el 20% de sus ventas en 2026, bajando desde el 33% en 2025, independientemente de cualquier restricción adicional de EE. UU.

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NotYourExitLPvip
· hace21h
¿60 máquinas EUV? TSMC, Samsung e Intel seguramente pelearán por conseguirlas todas
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BugBountyBuddyvip
· 04-28 02:47
La guerra de chips, al final, el ganador es Holanda que vende palas.
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GateUser-ced0257avip
· 04-28 02:44
Este informe financiero de ASML está directamente vinculado a la tendencia del valor de mercado de Nvidia.
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QuietRugAlarmvip
· 04-28 02:30
Cuando suena la máquina de fotolitografía, hay oro por millones, si la burbuja de la IA explota o no, es otra historia
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Post-RainTvlvip
· 04-28 02:27
Desde 7nm hasta 2nm, todo depende de este espejo
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TreatEarningsAsSnacksvip
· 04-28 02:26
La capacidad de producción de EUV es como la producción de petróleo en la era de la IA, los que entienden, entienden naturalmente.
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